反滲透凈水設備是將原水經過精細過濾器、顆?；钚蕴歼^濾器、壓縮活性碳過濾器等，再通過泵加壓，利用孔徑為1/10000μm（相當于大腸大小的1/6000，的1/300）的反滲透膜（RO膜），使較高濃度的水變為低濃度水，同時將工業污染物、重金屬、、等大量混入水中的雜質全部隔離，從而達到飲用規定的理化指標及衛生標準，產出至清至純的水，是人體及時補充水份的選擇.由于RO反滲透技術生產的水純凈度是目前人類掌握的一切制水技術中高的，所以人們稱這種產水機器為反滲透純凈水機。
反滲透是一種現代新型的純凈水處理技術。通過反滲透元件來提高水質的純凈度，清除水中含有的雜質和鹽。我們日常所引用的純凈水都是經過反滲透設備處理的，水質清澈。
工藝流程
1、原水(深井水)——原水箱——原水增壓泵——多介質過濾器——活性炭過濾器——樹脂軟化系統(或加藥系統、PH值調節系統)——5微米精密過濾器——反滲透主機系統——臭氧殺菌系統——純凈水箱——灌裝線(或用水點)
2、 市政自來水——多介質過濾器——活性炭過濾器——樹脂軟化系統(或加藥系統、PH值調節系統)——5微米精密過濾器——反滲透主機系統——臭氧殺菌系統——純凈水箱——灌裝線(或用水點)

我們想要購買一樣商品時首要考慮的是我們的所需，也就是所商品的主要用途。我們今天就了解一下實驗室所用的超純水機的主要用途。實驗室超純水機可以將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的設備。因此，實驗室超純水機可以說是每個實驗室都不可缺的一個重要設備。
實驗室超純水機產出的超純水主要用途說明：
1、、制劑室及中心實驗室用純化水和高純水
2、各種用生化儀、分析儀、血液透析儀用水
3、各種液相色譜、離子色譜用水
4、其他各種實驗室用水和用水。
5、分析試劑及配置稀釋用水
6、生理、病理、毒理學實驗用水
7、動、植物細培養用水
8、原子吸收光譜用水
9、用水

水質：出水水質>15MΩ.cm
用途:半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。  超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
    半導體（semiconductor），指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導體；化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態半導體外，還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。
光電材料生產、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備，我們公司生產反滲透＋EDI超純水設備，有多年的生產經驗，做過各行業的水處理設備，水處理方面我們有豐富的經驗。
半導體超純水設備制備工藝：
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(傳統工藝) 
  　 2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 （≥15MΩ.CM）(傳統工藝)
水質標準：
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備出水水質符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國電子工業超純水水質試行標準、半導體工業用純水指標、集成電路水質標準。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備的應用領域：
電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
電子管生產、顯像管和陰極射線管生產配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；
生產液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產中高純水清洗硅片；
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗；
顯像管、螢光粉生產；
汽車、家電表面拋光處理。

產品介紹
反滲透純水設備用于新興的光電材料生產、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。
集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。都應該使用多種純化技術相結合制取的純水，這樣才能提高純水的純度，符合用水需求。
而制藥行業純水設備采用雙級反滲透技術與純化、殺菌技術相結合，出水水質達到美國ASTM、NCCLS、CAP試劑級純水標準。
工藝設計
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 (≥18MΩ.CM)(傳統工藝)。
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(工藝)。
3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(工藝)。
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(工藝)。
5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統工藝)。
設備特點
1.采用進口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長，運行成本低廉。
2.無需酸堿處理，環保無“三廢”。
3.自動控制，自動維護，水質在線檢測，隨時監測水質變化。
4.切合當地水質的個性化設計，滿足需求。
5.全自動控制系統，日常操作極為簡便，系統自動進行沖洗維護，制取產品水過程不需要任何手工操作。
6.雙流路設計，不但可以制造超純水，還生產純水，方便用戶實驗室的不同級別用水要求。
7.預留了升級空間?？梢愿鶕脩粜枰p松實現功能升級。
技術參數
電子級超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。
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