貴州水處理設備，純凈水設備設計原理
純凈水設備是礦泉水廠中不可缺少的裝置，它的優點在于可根據不同地區的水質進行設計不同的生產工藝使出水水質達到統一國家標準。
純凈水設備工藝說明
如果原水水質硬度高，需采用納濾與中空纖維超濾作為主要工藝，進行水質的凈化與水軟化。通過中空超濾，對水質進行凈化處理;再通過納濾，去除水中較硬的礦物質。同時采用臭氧殺菌，輔以鈦棒過濾器，使得出水水質符合礦泉水《GB8537-95》的規定。
如果原水水質較好，原水中礦物質成份比較簡單的礦泉水，采用兩級精密過濾器，臭氧滅菌和中空纖維超濾器的成熟工藝。使得終出水水質符合國標《GB8537-95》標準。
純凈水設備主要特點
1.自動模塊設計控制，流程清晰明了，操作簡單方便，易于維護保養
2.能夠使二級濃水回流，節電節水，降低運作成本
3.吸附過濾器，吸附流程長，所產純水穩定、符合國標
4.采用多級離心泵，動力持久，確保無障礙長期運行
5.選用UF系統程序自動控制器，自動定時沖洗，延長UF納濾膜使用壽命
由于純凈水設備原水一般采用地下水，山泉水，井水等，它們富有的礦物質要比自來水礦物質含量高，我國目前大多井水及地下水中鐵錳含量較高，因此可在純凈水設備預處理工藝中添加鐵錳過濾器，將水中對人們身體有害的鐵錳物質完全去除。

水質：出水水質>15MΩ.cm
用途:半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。  超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
    半導體（semiconductor），指常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的材料。半導體材料很多，按化學成分可分為元素半導體和化合物半導體兩大類。鍺和硅是常用的元素半導體；化合物半導體包括Ⅲ-Ⅴ族化合物：化鎵、磷化鎵等；Ⅱ-Ⅵ族化合物：硫化鎘、硫化鋅等；氧化物：錳、鉻、鐵、銅的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物組成的固溶體：鎵鋁、鎵磷等。除上述晶態半導體外，還有非晶態的玻璃半導體、有機半導體等。
光電材料生產、加工、清洗；液晶顯示屏、離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備，我們公司生產反滲透＋EDI超純水設備，有多年的生產經驗，做過各行業的水處理設備，水處理方面我們有豐富的經驗。
半導體超純水設備制備工藝：
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(傳統工藝) 
  　 2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥18MΩ.CM）(工藝) 
　　3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥17MΩ.CM）(工藝) 
　　4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點（≥15MΩ.CM）(工藝) 
　　5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點 （≥15MΩ.CM）(傳統工藝)
水質標準：
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備出水水質符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我國電子工業超純水水質試行標準、半導體工業用純水指標、集成電路水質標準。
半導體超純水設備，超純水設備，超純水處理設備的應用領域：
電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗；　 超純水設備,超純水設備,硅片超純水設備
電子管生產、顯像管和陰極射線管生產配料用純水；
黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水；
生產液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液；
晶體管生產中純水主要用于清洗硅片；
集成電路生產中高純水清洗硅片；
半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水；
半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗；
高品質顯像管、螢光粉生產；
汽車、家電表面拋光處理。

產品介紹
反滲透純水設備用于新興的光電材料生產、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。
集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。都應該使用多種純化技術相結合制取高品質的純水，這樣才能提高純水的純度，符合用水需求。
而制藥行業純水設備采用雙級反滲透技術與純化、殺菌技術相結合，出水水質達到美國ASTM、NCCLS、CAP試劑級純水標準。
工藝設計
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 (≥18MΩ.CM)(傳統工藝)。
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(工藝)。
3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(工藝)。
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(工藝)。
5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統工藝)。
設備特點
1.采用進口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長，運行成本低廉。
2.無需酸堿處理，環保無“三廢”。
3.自動控制，自動維護，水質在線檢測，隨時監測水質變化。
4.切合當地水質的個性化設計，滿足需求。
5.全自動控制系統，日常操作極為簡便，系統自動進行沖洗維護，制取產品水過程不需要任何手工操作。
6.雙流路設計，不但可以制造超純水，還生產純水，方便用戶實驗室的不同級別用水要求。
7.預留了升級空間?？梢愿鶕脩粜枰p松實現功能升級。
技術參數
電子級超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

1、要求的產水量（每天需要多少水或每小時需要多少水，產水量的大小直接影響價格的高低；
2、原水水源（自來水，地下水井水，河水，湖水...)，除了自來水，其它的水源，建議提供水質報告，水源不一樣，處理的工藝也就不一樣，價格也會有一定的差異；
3、配置（需要配置還是一般配置，就是指水泵用國產的還是進口的，反滲透膜用海德能的還是陶氏的...），或者是對設備還有其它方面的要求，自動化程度對價格也起著決定的性的作用。
4、控制方式（用PLC全自動控制,機頭控制或是手動控制，自動運行)
5、出水水質要達到什么標準，電導率或電阻率要達到多少，有什么用途
反滲透水處理技術的應用及優點--反滲透設備，反滲透設備，反滲透水處理設備
反滲透工藝技術是采用膜分離的水處理技術。隨著膜科學研究和制造工藝的進步，反滲透水處理技術得到了迅速的發展。反滲透水處理技術的發展使之在所有水的淡化方式中占有地位，目前全世界范圍內的反滲透裝置容量每天已超過1200萬/噸，20世紀90年代以來，每年仍在以20%的速度遞增。反滲透除在苦咸水、海水淡化中使用外，還廣泛用于純水制備、廢水處理及飲水、飲料和化工產品的濃縮、回收工藝等多種領域。
反滲透水處理技術基本屬于物理方法，它借助物理化學過程，在許多方有傳統的水處理方法所沒有的優點：
· 反滲透是在室溫條件下，采用無相變的物理方法使水得以淡化、純化。
· 水的處理僅依靠壓力作為推動力，其能耗在許多處理方法中。
· 不用大量的化學藥劑和酸、堿再生處理。
· 無化學廢液及廢酸、堿排放、無廢酸、堿的中和處理過程，無環境污染。
· 系統簡單，操作方便，產品水質穩定，可以取得較高的純水。
· 適用于較大范圍的原水水質，既適用于苦咸水、海水及污水的處理，又適用于低含鹽量的淡水處理。
· 設備占地面積小，需要的空間少。
· 運行維護和設備維修量極低。
反滲透用于許多純水使用部門均有明顯的優勢，更具有常規的離子交換處理方式難以比擬的優異，如：
· 脫出水中二氧化硅效果好，除去率可達99.5%，避免了水中硅給離子交換樹脂帶來的再生困難、運行周期短的影響。
· 脫除水中有機物及膠體物質，脫除率可達95%。
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